一般研究助成General Research Grant
高分子分野における、新素材・加工技術・新機能に関する研究開発に対して助成する制度です。
本年度より、申請はWeb上の手続きに変更となっております。
募集要項
助成の対象
高分子分野における、新素材・加工技術・新機能に関する研究開発課題に対して助成します。
- 高分子の新規合成法・新素材開発・高機能化
- 高分子の成形・加工技術
- 高分子を用いた新機能部品・製品の開発
- SDGsに係わる高分子の活用
- その他、高分子に関する研究開発
申請の資格・制限
- 高分子分野で、主導的に研究を行っている方で、国内の大学・大学校・高等専門学校及び関連研究機関あるいは公的研究機関に所属している方。
- 本助成を過去に採択された方は、報告書を提出済であること。
助成金額
総額 20,000万円
1件当たりの助成額 上限500万円
助成金の使途
- 研究を有効に推進し、成果を上げるための費用としてお使いください。
- 申請者が所属する組織等の間接経費(オーバーヘッド)は、助成の対象になりません。
- 労務費(謝金も含む)は助成額の30%以内とし、アルバイトを含む研究協力者や補助者を対象とします。申請者の給与等、出張手当(日当)など各種手当への充当は認められません。
- 使途の変更を希望する場合は、メールにてご連絡ください。変更内容に応じて使途変更届を提出していただき、使途変更の可否を審査します。
研究期間
2027年1月1日~2028年12月31日
募集期間
2026年4月24日(金)~2026年6月30日(火) 12:00(正午)申請締切
申請の方法
下記「申請専用サイトへ」(https://ogasawarazaidan.yoshida-p.net/)
にて「助成申請の流れ」を参照し、電子申請システムでマイページを取得のうえ、以下にしたがって提出してください。
- 申請者情報:システム上のフォーマット
- 申請書:指定の様式(マイページでダウンロードして記入)
所属機関長の承諾と推薦者の押印が必要です。所属機関長は、部局長・研究所長相当以上の役職を想定しています。
推薦者は助教の場合は教授、特定(特任)助教・博士研究員の場合は研究室主宰者としてください。 - 添付資料:研究内容の補足説明に該当する資料は、簡潔なものを提出してください。
電子申請システムは操作に時間がかかる場合がありますのでご注意ください。
締切時刻を過ぎますと受付は終了します。必ず締切時間内に申請を終了させてください。
選考の方法
- 助成金の採択および金額は選考委員会において審査し、理事会が決定します。
- 採否の通知
研究助成の採否および金額は、2026年10月頃に申請者に通知します。
なお、採否の理由に関するお問い合わせには応じかねますので、予めご了承ください。
助成金の支払い
- 財団と採択者との間で覚書を締結していただきます。
- 所属する組織等の助成金担当者(会計担当者)と打ち合わせのうえ、覚書締結後、必要書類をご送付ください。詳細は採択時ご案内いたします。
報告の義務
- 研究報告は2029年3月31日までに、下記を必ず提出してください。
- 学術研究論文
本助成金を使用して得た成果を学術研究論文にする場合は、当財団の研究助成の由を記載し、掲載誌の別刷を遅滞なくお送りください。
その他
その他詳細は募集要項をダウンロードのうえご確認ください。ご質問等は事務局までメールにてお問合せください。
【事務局】
〒108-0014 東京都港区芝5-27-6
泉田町ビル4階
公益財団法人 小笠原敏晶記念財団
担当/村田
https://ogasawarazaidan.or.jp
Email. contact-tech@ogasawarazaidan.or.jp
提出書類
下記より各種提出書類をダウンロードしていただけます。
助成実績
助成実績の詳細をご確認いただけます。
個人情報保護方針
応募により頂きました個人情報は、事業目的の範囲内で、かつ業務遂行に必要な限度内で利用致します。
又、事前にご本人の同意を得ることなく、第三者に提供することは致しません。
お問い合わせ先
申請について不明点等ございましたら、下記事務局までE-mailでお問い合わせください。
【お問い合わせ先】
公益財団法人 小笠原敏晶記念財団 事務局
contact-tech@ogasawarazaidan.or.jp
事務局営業時間:9:00~17:00 (月~金)
〒108-0014 東京都港区芝5-27-6 泉田町ビル4階